參觀日本Japan Nepcon 2010電子展覽會
關注：2881發布日期：2010-01-26 17:09:00
于2010年1月19日至22日，本公司總經理陳建國先生及營運總監賴永康先生參觀日本Japan Nepcon 2010電子展覽會。日本HONNY公司介紹其*新開發先進材料技術應用在PWB及Lead frame制造業之產品。
化工產品HONNYRESIST? 電泳漆工藝，它能取代傳統的干膜(Dry film)，技術獲得更精密幼細線路的突破。
圖片一: 集華公司陳建國先生及賴永康先生與日本HONNY公司社長吉田先生及専務神門登先生合影。
圖片二: HONNYRESIST? 先進產品材料之研討會情況。
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